روشی جدید به منظور آشکارسازی عیوب در تصاویر اخذ شده از روکش چوب: بهینه سازی تابع انرژی روی تصویر حاصل از حذف طرح و نقش طبیعی

Abstract

در این مقاله یک روش جدید برای آشکارسازی عیوب سطح چوب به منظور تعیین کیفیت آن ارائه می گردد. در این روش ابتدا تفکیک عیوب از پس زمینه طبیعی روکش چوب در قالب یک مساله آزمون فرض های تصادفی مدل می شود. در گام بعدی طرح و نقش طبیعی روکش چوب با استفاده از مفهوم ریخت شناسی حذف می گردد. سرانجام مرزهای صحیح عیوب به کمک بهینه سازی تابع انرژی بر روی تصویر همگن شده فوق، استخراج می گردند. عملکرد روش پیشنهادی با آزمودن آن بر روی تصاویر واقعی که شامل عیوب سطحی مختلفی هستند، ارزیابی می شود. نتایج حاصله نشان می دهند که روش پیشنهادی عیوب را حدوداً 18 درصد بهتر از روش های ارائه شده دیگر آشکار می نماید. همچنین ملاحظه می شود که انجام آشکارسازی بهتر در روش پیشنهادی نه تنها موجب استخراج عیوب نادرست بیشتری نمی شود، بلکه نرخ آشکارسازی غلط را نیز حدوداً 8.2 درصد در مقایسه با روش های موجود کاهش می دهد. بنابراین، می توان نتیجه گرفت که روش پیشنهادی این مقاله می تواند به عنوان یک جایگزین مناسب برای روش های فعلی در کاربرد آشکارسازی عیوب سطوح روکش چوب مورد استفاده قرار گیرد.