ایجاد پوشش شفاف و ضد الکتریسیته ساکن روی زیرلایه پلی(متیل متاکریلات)

Abstract

در این تحقیق به‌وسیله دستگاه پوشش دهی چرخشی روی زیرلایه پلی (متیل متاکریلات)، پلیمر رسانای پلی (3،4- اتیلن دی اکسی تیوفن) از مونومر 4،3- اتیلن دی اکسی تیوفن به روش پلیمری شدن درجا، سنتز شد. در ادامه اثر پارامترهای دمای پخت، زمان پخت و سرعت پوشش دهی، بر ویژگی‌های ساختاری، نوری، الکتریکی و مکانیکی این پوشش موردبررسی قرار گرفت. برای این منظور از طیف‌سنجی تبدیل فوریه-مادون قرمز (FT-IR)، طیف‌سنجی ماوراءبنفش-مرئی (UV-Vis)، اندازه‌گیری مقاومت الکتریکی و آزمون تپ استفاده شد. نتایج نشان داد که یک سطح با مقاومت الکتریکی 38/61 کیلو اهم، با شفافیت خوب و چسبندگی مطلوب برای کاربردهای ضد الکتریسیته ساکن به‌دست‌آمده است. همچنین این داده ها نشان می دهد مقاومت این پوشش های پلیمری از مقاومت 10⁸ اهم کمتر است. از آنجا که کاهش مقاومت الکتریکی پلیمر تا 10⁸ اهم و کمتر از این مقدار می‌تواند تجمع الکتریسیته ساکن در سطح پلیمر را کاهش دهد، بنابراین پوشش پلیمری ایجاد شده روی زیر لایه پلی(متیل متاکریلات)، توانایی کاهش تجمع الکتریسیته ساکن را دارد.