مطالعه حذف فتوکاتالیتیکی آنتی بیوتیک‌ سفتریاکسون در محلول‌های آبی بااستفاده از نانوذرات TiO2 تحت تابش UV

Abstract

در این مقاله تخریب فتوکاتالیزوری آنتی بیوتیک سفتریاکسون در محلول­های آبی شاملTiO<strong>₂</strong> تحت تابش نورUV گزارش شده است. <br /> هم­چنین عوامل مؤثر بر واکنش فتوکاتالیزوری از جمله غلظت آنتی­بیوتیک­، غلظت TiO<strong>₂</strong> و مقدارpH مورد بررسی قرار گرفته است. برای پیگیری روند تخریب از اسپکتروفتومتری دو شعاعی UV/Vis بهره گرفته شده است. نتایج نشان دادند که شرایط بهینه برای تخریب­­­ <br /> آنتی­بیوتیک سفتریاکسون با غلظت mg200، مقدار mg 600 از TiO<strong>₂</strong> و pHبرابر 5 هست. تحت تاثیر بهترین شرایط عملیاتی، تخریب کامل آنتی­بیوتیک از محلول آبی در مدت 90 دقیقه صورت می­گیرد.