جداسازی و شناسایی مولکولی یک سویه جدید از Microbacterium resistens، قادر به تحمل شرایط سخت

Abstract

<strong>مقدمه: </strong>استفاده از باکتری­های مقاوم به اشعه، فرابنفش و دیگر شرایط سخت، برای پاک‏سازی زیستی و بازیابی فلزات موجود در زباله­های محیطی و صنعتی به خاطر توانایی بقا و کاتالیز عملکردی مطلوب تحت شرایط استرس بالای اشعه بسیار حائز اهمیت است.<br /> <strong>مواد و روش</strong><strong>‏‏</strong><strong>ها:</strong> پس از غربال‏گری اولیه و ثانویه به‏وسیله تابش اشعه با لامپ UV، یک جدایه به‏دست آمد که براساس ویژگی­های ریخت‏شناسی و بیوشیمیایی، تعیین توالی ژن S rRNA16 و تحلیل فیلوژنتیک، شناسایی شد. به منظور مطالعه ویژگی‏های مقاومت جدایه فوق، سویه در معرض برخی شرایط سخت از قبیل اشعه فرابنفش (25 ژول)، خشکی (28 روز)، هیدروژن پراکسید (1 تا 5 درصد)، میتومایسین C (1 تا 8 میکروگرم)، غلظت­های مختلف نمک (5 تا 25 درصد) و مقادیر مختلف اسیدیته ‏(1تا 11) گذاشته و رشد یا بقای باکتری در محیط TGY به‏وسیله اسپکترومتری یا فلوسیتومتری ارزیابی شد.<br /> <strong>نتایج:</strong> جدایه MG6 باکتری میله­ای گرم مثبت مقاوم به اشعه فرابنفش بود که توالی S rRNA16 آن 7/99 درصد ‏‏شباهت با <em>Microbacterium resistens</em> نشان داد. این شباهت با تحلیل فیلوژنتیک تائید شد. رشد بهینه سویه در اسیدیته 5 ‏و غلظت 5 درصد ‏‏کلریدسدیم دیده شد. همچنین به غلظت 1تا 4 درصد ‏‏ هیدروژن­پراکسید و 2 میکروگرم میتومایسین C مقاومت نشان داد. تحلیل میزان بقا نشان داد که این سویه در مقایسه با <em>Deinococcus radiodurans</em>R1 مقاومت بالایی در برابر اشعه فرابنفش، ولی در برابر خشکی مقاومت متوسطی دارد.<br /> <strong>بحث و نتیجه</strong><strong>‏</strong><strong>گیری:</strong> در این تحقیق، سویه جدیدی از <em>M. resistens</em>جداسازی شد که مقاوم به اشعه UV بود و تحمل برخی شرایط سخت مثل اسیدیته، عوامل اکسیدان و موتاژن، شوری و خشکی را نیز نشان داد. مقاومت سویه MG6 به اشعه UV قابل مقایسه با سویه مقاوم به اشعه <em>D. radiodurans</em>R1 بود. تحقیق حاضر اولین گزارش درباره مقاومت به شرایط سخت سویه جدید <em>M. resistens</em> در ایران می­باشد.