اثر شار اکسیژن بر روی ضریب شکست لایه اکسید آلومینیوم، لایه‌نشانی شده با روش تبخیر باریکه الکترونی
چکیده
در این مقاله اثر میزان شار اکسیژن هنگام لایه‌نشانی بر روی ضریب شکست لایه اکسید آلومینیوم بررسی شده است. لایه‌های توسط تفنگ الکترونی بر روی زیرلایه شیشه‌ای در شارهای متفاوت اکسیژن انباشته شده‌اند. درجه حرارت زیرلایه در زمان لایه‌نشانی 250 درجه سلسیوس ثابت نگه داشته می‌شود. طیف عبوری نمونه‌ها با استفاده از اسپکتروفوتومتر در محدوده طول موجی اندازه‌گیری شده‌اند. سپس با استفاده از نقاط بهینه (بیشینه یا کمینه) منحنی عبور، ضریب شکست و ضریب خاموشی نمونه‌ها محاسبه می‌شوند. نتایج نشان می‌دهد که با کاهش شار اکسیژن، در حالی که نرخ تبخیر ثابت نگه داشته شده است، ضریب شکست لایه‌های کاهش می‌یابد. از طرف دیگر، کاهش شار اکسیژن باعث ایجاد مقدار کمی جذب در لایه می‌شود.
کلید واژگان
رسانش الکترونیتنگابست
شار مغناطیسی
نانو‌حلقه کربنی
شماره نشریه
4تاریخ نشر
2016-01-211394-11-01
ناشر
انجمن فیزیک ایرانسازمان پدید آورنده
مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران، تهراندانشگاه بین المللی امام خمینی(ره)، قزوین
شاپا
1682-69572345-3664
