تعیین مشخصه‌های اپتیکی لایه‌های نازک هنگام فرآیند لایه‌گذاری در خلاء بدون اندازه‌گیری مستقیم ضرایب بازتاب یا عبور نور از نمونه

Abstract

در این مقاله مشخصه­های اپتیکی لایه­های نازک در حین فرایند لایه نشانی در خلاء بوسیله یک روش نسبتاً ساده اندازه­گیری می­شود. در این روش پیشنهادی با استفاده از نسبت مقدار سیگنال کمینه ضریب عبور (Ti) به مقدار بیشینه آن (Ta) یعنی Gt=1min/1max=Ti/Ta از طریق روابط فرنل بدون اندازه­گیری مستقیم ضریب عبور می­توان دیگر کمیتهای مورد نیاز از قبیل ضریب شکست ماده و یا ضریب بازتاب در فصل مشترک لایه ـ زیر لایه را بدست آورد. این روش برای تعیین مشخصه­های اپتیکی مواد As2S3 , Na3AIF6 , PbF2 , MgF2 , ZnS انجام گردید. نتایج حاصل با نتایج روش طیف نور سنجی مقایسه شد و سازگاری خوبی تا دو رقم اعشار بدست آمد. کاربرد این روش برای ساخت سیستمهای چند لایه­ای حساب به نور ارائه می­شود.