تاثیر ضخامت بذر لایه بر آبگریزی نانومیله های ZnO

Abstract

امروزه نانومیله­های اکسید روی بدلیل کاربرد­های متعدد در صنایع مختلف از جمله سلولهای خورشیدی، ابزارهای گسیل نور، کاتالیستها، سنسورهای گازی، انواع نانوحسگرها و سطوح فوق آبگریز توجهات زیادی را به خود اختصاص داده است. در این پژوهش ابتدا بر روی شیشه سودالایم توسط روش سل- ژل از طریق پوشش­دهی چرخشی با سرعت rpm­ 4000 لایه نازک ZnO با ضخامت­های 50، 150 و 300 نانومتر پوشش داده­شد و پس از آنیل زیر­لایه­ها در دمای C‌°300، نانومیله­های ZnO به روش هیدروترمال­ در محلول نیترات­روی­شش­آبه و آمونیاک به مدت دو ساعت­ بر روی آن­ها رشد داده­ شد. به منظور بررسی مورفولوژی ( قطر و طول نانومیله­ها ) از SEM و جهت بررسی آنالیز فازی از XRD استفاده گردید. برای خاصیت آبگریزی و اندازه­گیری زاویه تماس(CA) آزمون آبگریزی و برای توپوگرافی سطح­ بذرلایه آزمون AFM انجام گردید. نتایج نشان داد با افزایش ضخامت بذرلایه از 50 به 300 نانومتر، همراستایی نانومیله­های سنتز شده بر روی بذرلایه­ها کاهش یافته و میانگین قطر نانومیله­ها از 55 نانومتر به 90 نانومتر افزایش یافته است. همچنین نتایج بدست آمده از دستگاه Contact Angle نشان داد که زاویه تماس بر روی نانومیله­های سنتز شده روی بذرلایه با ضخامت 50 نانومتر، دارای بیشترین زاویه تماس (º 9/145) و با ضخامت 300 نانومتر دارای کمترین زاویه تماس (º 4/135 ) می باشد.