تعیین پارامترهای مناسب فرآیند کندوپاش فلز مولیبدنیوم و بررسی اثر لایه‌ای نازک از آن، برروی گسیل الکترون‌ها از آرایه‌ی گسیل میدان متشکل از نانونوک-های سیلیکانی

Abstract

بررسی برروی پارامترهای فشار عملیاتی و توان فرایند کندوپاش فلز مولیبدنیوم برروی مقاومت لایه‌ی نازک ایجاد شده برروی زیرلایه‌ی شیشه انجام گرفته و مقدار مناسب پارامترهای لایه نشانی تعیین شده اند. آرایه‌ی نانونوک‌های سیلیکانی از پیش ساخته شده طی فرایندی چند مرحله‌ای، در محیط خلا قرار داده شده است و به منظور کاهش تابع کار گسیل کننده‌ها، لایه‌ای از فلز مولیبدنیوم به روش کند و پاش و بر اساس پارامترهای تعیین شده در مرحله‌ی قبل بر روی نوک‌ها نشانده شده است. مشخصات هندسی گسیل کننده‌ها به کمک تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی (<span style="font-size: small;">SEM</span>) قبل و بعد از لایه نشانی مولیبدنیوم ارائه شده است. نشان داده شده است که استفاده از پوشش مولیبدنیومی امکان مشاهده‌ی پدید‌ه‌ی گسیل میدان را در ولتاژهای کمتر از 1000 ولت و در فواصل بین آند و کاتد بالای 1 میکرومتر فراهم می آورد. منحنی جریان-ولتاژ گسیل الکترون‌ها در فشار کمتر از <span style="font-size: small;">Torr</span>7-10<span style="font-size: small;">×</span>3 اندازه‌گیری و رسم شده است.