مطالعه سینتیک واکنش حذف فتوکاتالیستی آلاینده متیل اورانژ از آب در حضور کامپوزیت مغناطیسی Fe3O4-ZnO بر پایه اکسید گرافن
دریافت مدرک
FullText
اندازه فایل:
513.7کیلوبایتنوع فايل (MIME):
PDFنوع مدرک
Textمقاله کامل پژوهشی
زبان مدرک
فارسیچکیده
در این مطالعه راندمان حذف متیل اورانژ با استفاده از دو نوع فتوکاتالیست مغناطیسی حاوی ZnO در حضور و بدون حضور اکسید گرافن مورد بررسی قرار گرفت. همچنین سینتیک واکنش حذف متیل اورانژ و تاثیر پارامترهای عملیاتی از جمله زمان تابش‌دهی و کسر وزنی فتوکاتالیست‌ها با استفاده از روش آماری و آزمون چند دامنه‌ای دانکن بررسی شد. نتایج حاصل شده نشان داد راندمان حذف متیل اورانژ تحت تاثیر زمان تابش‌دهی و کسر وزنی فتوکاتالیست می‌باشد به طوری با افزایش این دو پارامتر، میزان حذف متیل اورانژ نیز افزایش می‌یابد. سینتیک واکنش تجزیه با استفاده از هر دو نوع فتوکاتالیست منطبق بر سینتیک واکنش شبه درجه اول می‌باشد و سرعت تجزیه متیل اورانژ با استفاده از فتوکاتالیست حاوی اکسید گرافن بیشتر از فتوکاتالیست فاقد اکسید گرافن می‌باشد. بررسی آماری تاثیر زمان تابش‌دهی و کسر وزنی فتوکاتالیست با استفاده از آزمون چند دامنه‌ای دانکن نشان می‌دهد هر دو پارامتر دارای تاثیر معنی‌داری بر روی حذف متیل اورانژ می‌باشند.
کلید واژگان
اکسید گرافننانوذرات ZnO
سینتیک واکنش
راندمان حذف
اکسیدها ( آلومینا، سیلیکا، تیتانیا، اکسید بور، منیزیا )
کامپوزیت های زمینه فلزی (سرمت ها)
شماره نشریه
1تاریخ نشر
2020-05-211399-03-01
ناشر
پژوهشگاه مواد و انرژیMaterials and Research Center (MERC)
سازمان پدید آورنده
مجتمع آموزش عالی فنی و مهندسی اسفراین، خراسان شمالی، اسفراین، ایراندانشگاه آزاد اسلامی، واحد فیروزآباد، گروه مهندسی شیمی، فیروزآباد، ایران
مجتمع آموزش عالی فنی و مهندسی اسفراین، خراسان شمالی، اسفراین، ایران
مجتمع آموزش عالی فنی و مهندسی اسفراین، خراسان شمالی، اسفراین، ایران
شاپا
2008-42692008-4277
