• ثبت نام
    • ورود به سامانه
    مشاهده مورد 
    •   صفحهٔ اصلی
    • نشریات انگلیسی
    • Iranian Journal of Catalysis
    • Volume 2, Issue 3
    • مشاهده مورد
    •   صفحهٔ اصلی
    • نشریات انگلیسی
    • Iranian Journal of Catalysis
    • Volume 2, Issue 3
    • مشاهده مورد
    JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

    Application of dimeric ortho-palladated complex of 2-methoxyphenethylamine in the Heck coupling reaction

    (ندگان)پدیدآور
    Hajipour, AbdolAbrishami, Fatemeh
    Thumbnail
    دریافت مدرک مشاهده
    FullText
    اندازه فایل: 
    358.3کیلوبایت
    نوع فايل (MIME): 
    PDF
    نوع مدرک
    Text
    زبان مدرک
    English
    نمایش کامل رکورد
    چکیده
    The application of the [Pd{C6H3(CH2CH2NH2)-4-OMe-5-κ2-C,N}(μ-Br)]2 complex of 2-methoxyphenethylamine in the Heck coupling reaction was considered under both conventional and microwave irradiation conditions, and their results were compared. This complex is an efficient, stable and non-sensitive to air and moisture catalyst for the vinylation of substituted aryl halides with different electronic properties. The cross-coupled products were produced in good to excellent yields using a catalytic amount of this complex in N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) at 130 °C. In comparison to conventional heating conditions, the reactions under microwave irradiation gave higher yields in shorter reaction times.
    کلید واژگان
    Heck reaction
    2-Methoxyphenethylamine
    Cyclopalladated complex
    Catalyst
    Microwave irradiation

    شماره نشریه
    3
    تاریخ نشر
    2012-09-01
    1391-06-11
    ناشر
    Islamic Azad University, Shahreza Branch
    سازمان پدید آورنده
    Pharmaceutical Research Laboratory, Department of Chemistry, Isfahan University of Technology, Isfahan 84156, Iran. Department of Pharmacology, University of Wisconsin, Medical School, 1300 University Avenue, Madison, 53706-1532, WI, USA
    Pharmaceutical Research Laboratory, Department of Chemistry, Isfahan University of Technology, Isfahan 84156, Iran.

    شاپا
    2252-0236
    2345-4865
    URI
    http://ijc.iaush.ac.ir/article_551205.html
    https://iranjournals.nlai.ir/handle/123456789/338635

    مرور

    همه جای سامانهپایگاه‌ها و مجموعه‌ها بر اساس تاریخ انتشارپدیدآورانعناوینموضوع‌‌هااین مجموعه بر اساس تاریخ انتشارپدیدآورانعناوینموضوع‌‌ها

    حساب من

    ورود به سامانهثبت نام

    آمار

    مشاهده آمار استفاده

    تازه ترین ها

    تازه ترین مدارک
    © کليه حقوق اين سامانه برای سازمان اسناد و کتابخانه ملی ایران محفوظ است
    تماس با ما | ارسال بازخورد
    قدرت یافته توسطسیناوب