سنتز و شناسایی نانوکامپوزیت جدید Co3O4/گرافن اکسید تثبیت شده بر چارچوب فلز-آلی UiO-66 و بررسی کاربرد فوتوکاتالیستی آن در تخریب آلاینده‌های تتراسایکلین و مالاتیون

Abstract

امروزه حذف آلاینده های سمی از پسابها به عنوان یک موضوع بسیار مهم مورد بررسی قرار گرفته است. در این تحقیق، تتراسایکلین (TC) به عنوان یک آنتی بیوتیک مهم و مالاتیون به عنوان یک آفت کش ارگانوفسفره سمی برای تخریب فوتوکاتالیستی توسط یک نانوکامپوزیت با کارآیی بالا در نظر گرفته شدند. از روش آسان و موثر فراصوت جهت سنتز نانوکامپوزیت Co3O4/گرافن اکسید/چهارچوب آلی فلزی UiO-66 استفاده شد. محصولات به وسیله روش های پراش اشعه ایکس (XRD)، طیف سنجی زیر قرمز (FT-IR)، میکروسکوپ الکترونی روبشی (SEM) و طیف سنجی UV- Vis مورد شناسایی قرار گرفتند. قابلیت نانوکامپوزیت سنتز شده در تخریب فوتوکاتالیستی آلاینده های تتراسایکلین و مالاتیون (ppm20) مورد ارزیابی قرار گرفت. نتایج نشان داد که حضور گرافن اکسید و UiO-66 باعث بهبود در خواص فوتوکاتالیستی Co3O4 شده و راندمان حذف تا 93% و 76% بترتیب برای تتراسایکلین و مالاتیون افزایش یافت. علاوه بر این، نتایج آنالیز کل کربن آلی (TOC) تخریب فوتوکاتالیستی این آلاینده ها را تایید کرد. در این مطالعه اثر دوز مصرفی Co3O4/گرافن اکسید و pH اولیه از محلول بر خواص فوتوکاتالیستی مورد بررسی قرار گرفت.