رشد منظم و عمودی نانو میله های دی اکسید تیتانیوم بر روی میکرو آرایه‌های سیلیکانی لایه نشانی شده با FTO به روش نبولایزر

Abstract

در این مقاله، لایه های اکسید قلع آلاییده شده با فلوئور (FTO) به عنوان الکترود و بذر رشد نانومیله های دی اکسید تیتانیوم (TiO2NRs) به روش لایه نشانی افشانه داغ مبتنی بر تکنیک نبولایزر بر روی زیر لایه سیلیکان میکرو ماشین کاری شده، ایجاد شده است. رشد این لایه اولین مرحله ساخت نانوژنراتورهای مبتنی بر باریم تیتانات است. پارامترهای فیزیکی لایه FTO و همچنین قابلیت رشد آن روی سطوح بزرگ اهمیت زیادی را در این حوزه به خود اختصاص داده است. تاثیر دمای لایه نشانی و همچنین حجم نبولایزر در مقاومت سطحی لایه ‌های FTO توسط دستگاه چهار پروب مورد بررسی قرار گرفته است. نمونه ها تحت یک شرایط هیدروترمال یکسان به منظور رشد نانومیله ها قرار گرفتند و شکل ظاهری نانوساختارهای رشد کرده بر روی لایه های ساخته شده، توسط SEM مورد بررسی قرار گرفته اند. چسبندگی لایه ها نیز به عنوان یکی از پارامترهای مهم در فرآیند هیدروترمال مورد بررسی قرار گرفته است. در این مقاله با استفاده از روش نبولایزر به مقامت های سطحی پایین تا 11 Ω/cm2 دست پیدا شد که شرایط رشد روی سطوح بزرگ نیز فراهم است.